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チタンスパッタリングターゲット
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チタンスパッタリングターゲット

  • 99.9-99.9995%

  • お客様の図面に応じた加工

  • 木箱

  • 半導(dǎo)體

可用性ステータス:
數(shù)量：

チタンターゲットの概要:


特定の形狀（円形、四角形、またはその他の複雑な形狀）および純チタンまたはチタン合金から特定のプロセスで製造された微細(xì)な表面を備えたチタンターゲット。


チタンターゲットはその優(yōu)れた性能により、液晶ディスプレイ、太陽(yáng)電池、磁性材料等の分野で幅広く使用され、基礎(chǔ)材料として重要な役割を果たしています。たとえば、LCD の製造では、マグネトロン スパッタリングによってチタン ターゲットを製造し、純粋で均一なチタン膜を生成できるため、製品の性能が大幅に向上します。


試験方法：GDMS、LECO

化學(xué)成分、≦、単位[wt%]ppm(1ppm=0.0001%）

プロジェクト

3N

3N5

4N

4N5

5N

5N5

完全な純度

≥99.9

≥99.95

≥99.99

≥99.995

≥99.999

≥99.9995

銀

-

-

1

0.5

  0.01

  0.01

アル

-

50

10

3

2

2

として

-

-

10

1

0.5

0.5

アウ

-

-

1

0.5

  0.25

  0.25

B

-

1

-

0.1

  0.05

  0.05

なれ

-

-

-

0.5

0.5

0.5

ビ

-

-

-

0.1

  0.05

  0.05

Ca

-

-

1

1

0.5

0.5

CD

-

-

-

1

0.2

0.2

Cl

600

10

5

1

0.1

0.1

コ

-

-

5

1

  0.05

  0.05

Cr

-

20

5

1

0.8

0.8

銅

-

50

5

2

1

1

F

-

-

-

15

0.5

0.5

鉄

700

200

10

7

5

3

水銀

-

-

-

0.5

0.5

0.1

K

-

0.1

0.1

  0.05

  0.05

  0.01

李

-

0.1

0.1

  0.05

  0.05

    0.005

マグネシウム

-

1

2

1

0.1

0.1

ん

-

10

5

1

1

0.5

モー

-

-

4

1

  0.05

  0.05

ナ

-

-

0.2

  0.03

  0.03

  0.03

ニ

250

25

5

1

0.5

0.5

P

-

-

-

1

  0.25

  0.01

鉛

-

-

-

1

0.1

  0.01

PD

-

-

-

0.1

0.1

  0.01

S

-

-

10

10

5

3

Sb

-

-

7

0.5

0.5

  0.05

シ

200

50

5

2

1

1

SN

-

-

5

1

0.5

  0.01

テ

-

-

-

0.5

0.5

  0.05

Th

-

0.001

0.001

     0.0005

      0.0001

      0.0001

U

-

0.001

0.001

     0.0005

      0.0001

      0.0001

V

-

-

-

1

1

1

W

-

-

-

1

0.1

0.1

亜鉛

-

-

5

1

0.1

0.1

ジル

-

-

5

3

1

1

バ

-

-

-

0.1

0.1

0.1

Br

-

-

-

0.5

0.5

0.5

セ

-

-

-

0.1

0.1

0.1

Cs

-

-

-

0.1

0.1

0.1

ガ

-

-

-

0.5

0.5

0.5

ゲ

-

-

-

0.5

0.5

0.5

Hf

-

-

-

1

1

1

I

-

-

-

0.1

0.1

0.1

In

-

-

-

0.1

0.1

0.1

ラ

-

-

-

0.1

0.1

0.1

ポイント

-

-

-

0.1

0.1

0.1

リ

-

-

-

0.1

0.1

0.1

Rh

-

-

-

0.2

0.2

0.2

ル

-

-

-

0.1

0.1

0.1

Sc

-

-

-

0.1

0.1

0.1

セ

-

-

-

0.5

0.5

0.5

広報(bào)

-

-

-

0.1

0.1

0.1

Nd

-

-

-

0.1

0.1

0.1

SM

-

-

-

0.1

0.1

0.1

歐州連合

-

-

-

0.1

0.1

0.1

ゴッド

-

-

-

0.1

0.1

0.1

TB

-

-

-

0.1

0.1

0.1

ディ

-

-

-

0.1

0.1

0.1

ホー

-

-

-

0.1

0.1

0.1

えー

-

-

-

0.1

0.1

0.1

Tm

-

-

-

0.1

0.1

0.1

イブ

-

-

-

0.1

0.1

0.1

ルー

-

-

-

0.1

0.1

0.1

オス

-

-

-

0.1

0.1

0.1

イル

-

-

-

0.1

0.1

0.1

ポイント

-

-

-

0.1

0.1

0.1

TL

-

-

-

0.1

0.1

0.1

C

200

150

50

30

30

30

H

50

10

5

10

6

6

N

200

100

50

30

30

30

O

800

700

450

300

200

100


高純度チタンターゲットの応用


高純度チタンターゲットは、エレクトロニクス、光學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、航空宇宙、エネルギー、研究などの業(yè)界で幅広く応用されています。  

これらのターゲットは、エレクトロニクス産業(yè)における高度な集積回路、半導(dǎo)體デバイス、MEMS の製造に使用されます。  

光學(xué)分野では、レンズ、ミラー、フィルターの性能を向上させるための精密光學(xué)コーティングに使用されています。    

高純度チタンターゲットは、その生體適合性と耐食性により、醫(yī)療用インプラントや醫(yī)療機(jī)器にとって極めて重要です。  

また、航空機(jī)エンジンの重要なコンポーネントとして航空宇宙産業(yè)でも重要な役割を果たしています。  

エネルギー分野では、これらのターゲットは太陽(yáng)電池や燃料電池の薄膜コーティングに利用されています。

 さらに、高純度チタンターゲットは研究開発目的に不可欠であり、材料特性の調(diào)査に役立ちます。  

全體として、高純度チタンターゲットの卓越した特性と高い化學(xué)純度により、高純度チタンターゲットはさまざまなハイテク用途に不可欠なものとなっています。


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Ningbo Chuangrun New Materials Co., Ltd。(CRNMC) は 2012 年 6 月に設(shè)立され、4 つの生産拠點(diǎn)を持っています。

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